Rusya, 150nm elektron ışını litografi sistemini tanıttı

Rusya, 150nm çözünürlüğe sahip elektron ışını doğrudan yazım litografi sisteminin prototipini geliştirdiğini açıkladı. Sistem, özellikle savunma ve uzay sanayisindeki çip üretimini hedefliyor.

Kaynak: Donanım Haber